Intel, ilk High-NA EUV yonga üretim makinesinin kurulumunu tamamladı
Intel Foundry, ABD’de bulunan D1X fabrikasında sektörün ilk ticari High-NA EUV (High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet) litografi makinesinin montajını tamamladığını ...
Intel Foundry, ABD’de bulunan D1X fabrikasında sektörün ilk ticari High-NA EUV (High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet) litografi makinesinin montajını tamamladığını ...
Intel ve ASML, ASML'nin yeni high-NA litografi aracı ile ışık kaynağını açıp ışığı ilk defa plakaya (wafer) ulaştırarak önemli bir dönüm ...
Transistör boyutlarının küçültülmesi, çip performansının artırılması açısından kritik öneme sahip. Bu nedenle yarı iletken endüstrisi, transistörleri küçültmenin yollarını aramaya devam ...
Geçen yıl Canon, ASML'nin aşırı ultraviyole (EUV) ve gelişmiş derin ultraviyole (DUV) litografi cihazlarıyla rekabet edebilecek ilk nanobaskı (nanoimprint) litografi ...